一、主要用途:
氮化钽 靶材(TaN):适用于工业级镀膜,实验或研究级别用铈靶材,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等。
二、适用领域:
1、适用溅射设备品牌:
A.适用设备:单靶溅射系统,双靶溅射系统,JC500型磁控溅射仪,DE300DL 磁控溅射系统
B.适用设备品牌:国产品牌:南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2、常规尺寸:
1.直径:1英寸,2英寸,3英寸,4英寸,5英寸等不同直径
2.厚度:1mm,2mm,3mm,4mm等尺寸可定做
三、产品详情及价格:
货号 | 产品名称 | 规格 | 包装 | 数量 | 交期 | 备注 |
TaN-T2522 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ50.8*2mm | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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TaN-T2523 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ50.8*3mm | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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TaN-T2523B2 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ50.8*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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TaN-T2524 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ50.8*4mm | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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TaN-T2524B2 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ50.8*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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TaN-T2533 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ60*3mm | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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TaN-T2533B2 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ60*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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TaN-T2534 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ60*4mm | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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TaN-T2534B2 | 氮化钽 靶材(TaN) | 99.5% φ60*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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