一、主要用途：
氮化硅 靶材 (Si3N4)适用于工业级镀膜，实验或研究级别用铈靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等。
二、适用领域：
1、适用溅射设备品牌：
A.适用设备：单靶溅射系统，双靶溅射系统，JC500型磁控溅射仪，DE300DL 磁控溅射系统
B.适用设备品牌：国产品牌：南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2、常规尺寸：
1.直径：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直径
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、产品详情及价格：
| 货号 | 产品名称 | 规格 | 包装 | 数量 | 交期 | 备注 |
| Si3N4-T25A3W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ25.4*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T25A4W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ25.4*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T25A5W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ25.4*5mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T25A6W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ25.4*6mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T25A3B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ25.4*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T25A4B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ25.4*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T25A5B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ25.4*5mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T25A6B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ25.4*6mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2513W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ50*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2513B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ50*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2514W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ50*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2514B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ50*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2513B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ50*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2513B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ50*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2514B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ50*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2514B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ50*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2523W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ50.8*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2523B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ50.8*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2524W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ50.8*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2524B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ50.8*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2523B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ50.8*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2523B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ50.8*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2524B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ50.8*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2524B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ50.8*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2533W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ60*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2533B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ60*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2534W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ60*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2534B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ60*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2533B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ60*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2533B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ60*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2534B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ60*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2534B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ60*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2553W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ76.2*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2553B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ76.2*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2554W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ76.2*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2554B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ76.2*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
|
| Si3N4-T2553B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ76.2*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
|
| Si3N4-T2553B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ76.2*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2554B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ76.2*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2554B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ76.2*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2583W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ101.6*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2583B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ101.6*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2584W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ101.6*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2584B2W | 氮化硅 靶材(Si3N4)白色 | 99.5% φ101.6*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2583B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ101.6*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2583B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ101.6*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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| Si3N4-T2584B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ101.6*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| Si3N4-T2584B2B | 氮化硅 靶材(Si3N4)黑色 | 99.5% φ101.6*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 15-20个工作日 |
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