一、物理性质
碳化硼
化学式：B4C，
相对分子质量：55.26
性状：坚硬黑色有光泽晶体。硬度比工业金刚石低，但比碳化硅高。与大多数陶器相比，易碎性较低。具有大的热能中子俘获截面。抗化学作用强。不受热氟化氢和硝酸的侵蚀。溶于熔化的碱中，不溶于水和酸。相对密度(d204)2.508～2.512。熔点2350℃。沸点3500℃。
储存：密封保存。
用途：防化学品陶器、耐磨工具制造。
物理化学性质:与酸、碱溶液不起反应，具有高化学位、中子吸收、耐磨及半导体导电性。是对酸最稳定的物质之一，在所有浓或稀的酸或碱水溶液中都稳定。碳化硼在空气环境下中800℃以下是基本稳定的，由于其在更高的温度氧化形成的氧化硼呈气相流失，导致其不稳定，氧化形成二氧化碳和三氧化二硼。
当有一些过渡金属及其碳化物共存时，有特殊的稳定性。
在1000～1100℃条件下元素周期表中第Ⅳ、Ⅴ和Ⅵ族过渡金属与碳化硼粉末强烈反应形成金属硼化物。不过，在更高的反应温度下，文献报道指出碳化硼容易氮化或者和过渡金属氧化物反应，形成相应的氮化硼、以及硼化物，这种硼化物以稀土和碱土金属六硼化物为多。
氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾熔融时，碳化硼容易分解，并进行硼含量的测定。
它的摩氏硬度为9.3，并是继金刚石、氮化硼、的已知第三种最硬的物质。（比碳化硅9.5低）
由于制备手段的因素，碳化硼容易形成碳缺陷，导致硼碳比在很大的范围内变化而不影响其晶体结构，这往往导致其理化性能的降低。这种缺陷往往难以通过粉末衍射分辨，常常需要化学滴定以及能量损失谱确定。
二，主要用途
适用于磁控溅射制备薄膜
三、适用领域
1、适用溅射设备品牌：
A.适用设备：单靶溅射系统，双靶溅射系统，JC500型磁控溅射仪，DE300DL 磁控溅射系统
B.适用设备品牌：
国产品牌：南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2、常规尺寸：
1.直径：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直径
2.厚度：1mm,2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
四、产品详情及价格：
| 货号 | 产品名称 | 规格 | 包装 | 数量 | 交期 | 备注 |
| B4C-T25AT | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ25.4*3.17mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| B4C-T25A3 | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ25.4*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| B4C-T2523B2 | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ50.8*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-20个工作日 |
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| B4C-T2524 | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ50.8*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| B4C-T2524B2 | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ50.8*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-20个工作日 |
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| B4C-T2533 | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ60*3mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| B4C-T2533B2 | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ60*3mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-20个工作日 |
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| B4C-T2534 | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ60*4mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| B4C-T2534B2 | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ60*4mm绑定2mm铜背靶 | 片 | 1 | 10-20个工作日 |
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| N | 碳化硼 靶材(B4C) | 99.5% φ230*5mm | 片 | 1 | 10-15个工作日 |
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| 更多规格、更多型号产品，可咨询客服电话 010-56073481。QQ：2380702353 QQ：2031869415 |
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