蒂姆新材料

经常有人问我们可以做什么靶材?其实能做的靶材多了，我们也很难一次说完~为了大家更好的了解我们的产品，我们会根据靶材的难易程度，整理出对应的清单，大家可以根据需要来选择哦~难制备、复杂、掺杂的靶材清单如下：蒂姆（北京）新材料科技有限公司货号产品名称规格包装AgSbTe2-T40S63银锑碲 靶材(AgSbTe2)99.99% φ30*3mm1片AgSbTe2-T40S63B2银锑碲 靶材(Ag...

锗的应用简介锗是重要的半导体材料，在半导体、航空航天测控、核物理探测、光纤通讯、红外光学、太阳能电池、化学催化剂、生物医学等领域都有广泛而重要的应用。根据美国地质调查局数据显示(2015)全球锗终端用户所占比例如下：纤维光纤30%；红外光纤20%；聚合催化剂20%；电子和太阳能器件15%和其他(荧光粉、冶金、和化疗)15%。光纤掺锗光纤具有容量大、光损小、色散低、传输距离长及不受环境干扰等优...

真空设备检漏注意事项一、真空设备设计中的注意事项1、根据设备的工艺要求，确定真空设备的总的最大允许漏率，并依据这一总漏率确定各组成部件的最大允许漏率。　　2、根据设备的最大允许漏率等指标，在设计阶段就初步确定将要采用的检漏方法，并将其作为指导调试验收的基本原则之一。　　3、根据设备或部件的最大允许漏率指标，决定设备的密封、连接方式和总体加工精度，以及何种动密封形式能够满足要求。如，法兰采用金...

铂又称白金，价格比黄金贵，由于它有许多优良的性质，尽管出现了各种代用品，但许多分析工作仍然离不开铂。铂的熔点高达1774℃，化学性质稳定，在空气中灼烧后不起化学变化，也不吸收水分，大多数化学试剂对它无侵蚀作用，耐氢氟酸性能好，能耐熔融的碱金属的碳酸盐。因而常用于沉淀灼烧称重、氢氟酸溶样以及碳酸盐的熔融处理。铂坩埚适用于灼烧沉淀。铂制小舟、铂丝圈用于有机分析灼样品。铂丝、铂片常用于电化学分析中...

(一) 铂坩埚1、铂是一种贵重金属，焙点约为1770度，质软，使用时不要用手捏，以防变形。也不能用玻璃棒捣刮铂坩埚内壁，以防损伤。也不要将红热的铂坩埚放人冷水中骤冷。2、铂坩埚的加热和灼烧，均应在垫有石棉板或陶瓷板的电炉或电热板上进行，或在煤气灯的氧化焰上进行，不能与电炉丝、铁板及还原焰接触，因为在高温下铁易与铂形成合金，还原性气体能与铂形成碳化铂，使铂坩埚变脆。滤纸如在铂坩埚中灼烷，应在低...

一、 天平的称量方法1、 直接称量法：对一些在空气中无吸湿性的试样或试剂如金属或合金等，可用直接法称量。称量时将表面皿或其他称量容器放于秤盘中央，去皮，然后将试样置于称量容器中，即得到试样的质量。2、 固定质量称量法：分析实验中为准确称取某一指定质量的试样，可用固定质量法称量。称量时将表面皿或其他称量容器放于秤盘中央，去皮，然后用药勺盛试样（试样一般要预先研细），在容器上方轻轻振动，使试样徐...

石墨坩埚虽然具有体积密度高、耐高温、传热快、耐酸碱腐蚀、耐高温、耐氧化等特点，但对于单个原料的精炼来说，使用坩埚后的清洗工作非常麻烦。清洁石墨坩埚的首要任务是清除坩埚中的化学物质，然后进行清洁。我们需要根据石墨坩埚中残留的物质来决定要清洗什么。1.一般来说，石墨坩埚上的粘合剂是无机燃烧的残留物。我们可以用盐酸清洗，其中大部分是可溶的，有些含碳的残渣不能用盐酸溶解。硝酸氧化性强，清洗时可适当加...

氮化硼陶瓷坩埚真空下使用温度1800度，气氛保护下使用温度2100度。氮气或者氩气气氛使用最佳，寿命最长。氮化硼坩埚抗热震强，1500度急冷不开裂，1000度炉内保温20分钟取出来吹风急冷连续反复上百次不会开裂。 使用注意事项：1 空气中使用温度不能超过1000度，超过1000度氮化硼与氧气接触表面会氧化剥落。2 氮化硼易吸潮，坩埚不能存放潮湿区域，不能水洗，可直接用砂纸擦除或者用酒精擦洗。...

蒸发源是用来加热膜材使之气化蒸发的装置。目前所用的蒸发源主要有电阻加热，电子束加热，感应加热，电弧加热和激光加热等多种形式。电阻加热式蒸发源的发热材料一般选用W、Mo、Ta、Nb等高熔点金属，Ni、Ni-Cr合金。把它们加工成各种合适的形状，在其上盛装待蒸发的膜材。一般采用大电流通过蒸发源使之发热，对膜材直接加热蒸发，或把膜材放入石墨及某些耐高温的金属氧化物（如Al2O3，BeO）等材料制成...

电阻蒸发镀：电阻蒸发源用于蒸发低熔点材料，如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等。电阻蒸发源一般采用钨、钼、钽制作。2.电子束蒸发镀：利用电子束加热使膜材汽化蒸发后，凝结在基片表面成膜是真空蒸镀技术中一种重要的加热方法。这种装置的种类很多。随着薄膜技术的广泛应用，不但对膜的种类要求繁多，而且对膜的质量要求更加严格。电阻蒸发镀已不能满足蒸镀某些金属和非金属的需要。电子束热源能获得远比电阻热源更...

一、表面粗糙度的概念零件在机械加工过程中，由于切削时金属表面的塑性变形和机床震动以及刀具在表面上留下的刀痕等因素的影响，使零件的各个表面，不管加工的多么光滑，至于显微镜下观察，都可以看到峰谷高低不平的情况，如图。加工表面上具有较小间距的峰谷...

随着光电子产业的日益发展，许多成像和数码显示的各种产品越来越趋于高亮度、超高清晰度、超大面积、超精细的结构方向发展，因而对光电子产业所使用的材料也趋于更高要求。例如极好的、安定的折射率，极高的密度、纯度和高透光度的均质化材料被不断开发和应用...

溅射(溅射)工艺是VLSI制造过程中反复使用的物理气相沉积(PVD)技术之一。它是制备电子薄膜材料的主要技术之一。它利用离子源产生的离子加速高真实空气中的聚集并形成高速离子束。固体表面的轰击，离子与固体表面原子之间的动能交换，使得固体表面的...

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一。它利用离子源产生的离子加速离子在真空中的积累，形成高速离子束，轰击固体表面，并在离子与固体表面的表面之间交换能量，使固体表面的原子与固体和沉积在基座表面上并被轰击。固体是溅射薄膜的原材料，被称为溅射靶材。溅...

磁控溅射靶靶型分类u靶型开发的历程大致如下：首先开发的是轴状靶→圆盘形平面靶→S-枪→矩形平面靶→各种异形靶→对靶或孪生靶→靶面旋转的圆柱靶→靶-弧复合靶→……，目前应用最广泛的是矩形平面靶，未来最受关注的是旋转圆柱靶和靶-弧复合靶。u同轴...

1．概漏的基本概念真空检漏就是检测真空系统的漏气部位及其大小的过程。漏气也叫实漏，是气体通过系统上的漏孔或间隙从高压侧流到低压侧的现象。虚漏，是相对实漏而言的一种物理现象。这种现象是由于材料放气、解吸、凝结气体的再蒸发、气体通过器壁的渗透及...

选用真空泵时，需要注意的事项1、真空泵的工作压强应该满足真空设备的极限真空及工作压强要求。　　如：真空镀膜要求1×10-5mmHg的真空度，选用的真空泵的真空度至少要5×10-6mmHg。通常选择泵的真空度要高于真空设备真空度半个到一个数量...

半导体与绝缘体SiGaAsGeαSiCSiO2Si3N4密度(g/cm3)2.335.325.323.212.23.1击穿场强(MV/cm)0.30.50.12.31010介电常数11.712.916.26.523.97.5禁带宽度(eV)...

1. 真空区域划分真空区域压强范围托(Torr)帕(Pa)低真空760~10101325～1333中真空10~10-31333～1.33×10-1高真空10-3~10-81.33×10-1～10-6超高真空10-8~10-1210-6～10...

1.常用单位单位相当于埃0.1纳米10-10米纳米10埃10-9米靶10-24厘米210-28米2特斯拉1韦伯/米2104高斯大气压1.013×105牛顿/米2电子伏1.602189×10-19焦耳焦耳10-7尔格6.241461×1018...