蒂姆（北京）新材料科技有限公司可提供多种成分、多种尺寸、多种工艺金属氧化物靶材。
常用参数：
靶材纯度：99.9%、99.95%、99.99%
制备工艺：热等静压、常温烧结等
靶材形态：平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶
圆靶尺寸：φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸：50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
绑定服务：陶瓷靶材亦可提供铜背靶铟焊绑定服务，提高陶瓷靶材导电导热性，提高使用效率
包装方式：真空包装 |
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| 化学式 | 品名 | 纯度（%） | 致密度 | 适用设备 |
| SiO2 | 二氧化硅 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| HfO2 | 二氧化铪 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| TiO2 | 二氧化钛 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| ZrO2 | 二氧化锆 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| WO3 | 三氧化钨 靶材 | 3N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Nb2O5 | 五氧化二铌 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Ta2O5 | 五氧化二钽 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| MoO3 | 三氧化钼 靶材 | 3N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Sc2O3 | 三氧化二钪 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Al2O3 | 氧化铝 靶材 | 3N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| ZnO | 氧化锌 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| MgO | 氧化镁 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Bi2O3 | 氧化铋 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Cr2O3 | 氧化铬 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| NiO | 氧化镍 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| V2O5 | 氧化钒 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Y2O3 | 氧化钇 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| AZO | 氧化锌铝 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| ITO | 氧化铟锡 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| CeO2 | 二氧化铈 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Er2O3 | 氧化铒 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Sm2O3 | 氧化钐 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Nd2O3 | 氧化钕 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
| Fe3O4 | 氧化铁 靶材 | 4N | ＞80% | 磁控溅射设备、离子溅射仪 |
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